當前位置:首頁 > 産品展示 > 系統設備 > CVD系統 > CVD系統
産品展示Products

CVD系統

型    号:
所屬分類:CVD系統
报    价: 市場價:
分享到:

CVD系統该系列产品系周期作业,供企业实验室,大专院校,科研院所等单位选用,设备为用户提供具体真空、可控气氛及高温的实验环境,应用在半导体,纳米技术,碳纤维等新材料新工艺领域。

CVD系統产品概述:

CVD系統适用领域:

     CVD系統設備由沉积温度控件、沉积反应室、真空控制部件和气源控制备件等部分组成亦可根据用户需要设计生产,除了主要应用在碳纳米材料制备行业外,现在正在使用在许多行业,包括纳米电子学、半导体、光电工程的研发、涂料等领域 。

     CVD成长系统是利用气态化合物或化合物的混合物在基体受热面上发生化学反应,从而在基体表面上生成不挥发涂层的一种薄膜材料制备系统。

CVD系統产品的特点:
     1.兼容、常压、微正压多种主流的生长模式
     2.可以在1000Pa-0.1Pa之间任意气压下进行石墨烯的生长
     3. 使用计算机控制,可以设置多种生长参数
     4.可以制备高质量,大面积石墨烯等碳材料,尺寸可达数厘米,研究动力学过程
     5. 沉积效率高;薄膜的成分精确可控,配比范围大;厚度范围广,由几百埃至数毫米,可以实现厚膜沉积且能大量生产

産品用途:

此款CVD系統适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控

生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結真空淬火退火,快速降溫等工藝實驗。

産品組成:

配置:

1.1200度開啓式真空管式爐(可選配多溫區)。

2.滑動系統分爲手動、電動滑動,並配有風冷系統。

3.多路質量流量控制系統

4.真空系統(可選配中真空或高真空)    


 産品特點:

1 控制电路选用模糊PID程控技术,该技术控温精度高,热惯性小,温度不过冲,性能可靠,操作简单。

2 气路快速连接法兰结构采用本公司独有的知识产权设计,提高操作便捷性。

3 中真空系统具有真空度上下限自动控制功能,高真空系统采用高压强,耐冲击分子泵,防止意外漏气造

成分子泵損壞,延長系統使用壽命。

4 (电动)滑动系统采用温度控制器自动控制炉体移动,等程序完成,炉体按设定的速度滑动,因有滑动限
 
位功能爐體不會發生碰撞,待樣品露出爐體後,通過風冷系統快速降溫。
 

留言框

  • 産品:

  • 留言內容:

  • 您的單位:

  • 您的姓名:

  • 聯系電話:

  • 常用郵箱:

  • 詳細地址:

  • 省份:

  • 驗證碼:

    請輸入計算結果(填寫阿拉伯數字),如:三加四=7
聯系人:趙健
電話:
022-26980130
手機:
15122725930
  • 点击这里给我发消息